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臥式真空蒸著機
特色:
- 容量較立式真空蒸著機大。
- 搭配電漿聚合表面處理模組，不但環保、低汙染，
- 還能滿足產品阻水、阻氣或疏水的特性要求，更加提高產品的附加價值。
用途:
- 各種款式的五彩飾品、手機外殼、化妝品容器、香水瓶、鏡子...等。
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系統/機種 |
LP-1100 HS |
LP-1300 HS |
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腔體直徑 |
1,100 mm |
1,300 mm |
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腔體長度 |
1,100 mm |
1,500 mm |
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可蒸鍍尺寸 |
∮220x1,000mmx 6 |
∮250x1,400mmx 8 |
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視窗 |
1組 |
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鎢舟數 |
4個 |
5個 |
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迴轉幫浦 |
6,000公升/ 每分鐘 |
6,000~10,000公升/ 每分鐘 |
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加強幫浦 |
1,500 M3/ 每小時 |
2500 M3/ 每小時 |
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擴散幫浦 |
20,000公升/ 每秒 |
45,000公升/ 每秒 |
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高真空閥 |
24英吋 |
36英吋 |
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粗抽閥 |
6英吋 |
|
|
預抽閥 |
6英吋 |
|
|
洩氣閥 |
2英吋 |
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|
到達真空度 |
10-6 Torr |
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排氣速度 |
從1個大氣壓到 2x10-4 Torr 約5分鐘 (空爐時) |
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操作方式 |
自動,手動 |
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蒸著電源 |
10KW |
30KW |
|
真空計 |
Pirani + Cold Cathode (1ATM ~ 10-6 Torr) |
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控制箱 |
1組 |
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|
冷卻系統 |
水壓: 4Kg/ cm2,壓差:2Kg/ cm2 |
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冷卻水溫度 |
建議 入水18℃，出水25℃，標準溫度20±1℃ |
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超低溫冷凍機 |
超低溫冷凍機-110~-140℃ (採用環保冷媒) 另外選配 |
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空壓機 |
3HP (空壓: 6 ~ 8 Kg/ cm2) |
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所需電力 |
40KW |
50KW |
立式雙門蒸濺鍍兩用真空蒸著機
特色:
- 左右爐可個別蒸著
- 蒸著製程有4組可供選擇
- 適用RF或濺鍍靶材
- 迴轉機構採用公自轉方式，針對有曲度產品的蒸著，可達到極佳的均勻性效果。
用途:
- 手機機殼/ 按鍵/ PDA
- 其他資訊產品外殼/ 汽車後視鏡
- 裝飾性產品之金屬化及NCVM蒸著
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系統/機種 |
LP- 1200 BPSD |
LP- 1500 BPSD |
LP- 1600 BPSD |
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腔體尺寸 |
直徑 |
1,200 mm |
1,500 mm |
1,600 mm |
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高度 |
1,300 mm |
1,500 mm |
1,600 mm |
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可蒸鍍尺寸 |
- |
∮135x1,050mm x18 |
∮135x1,250mmx24 |
∮135x1,350mmx26 |
|
到達真空度 |
- |
10-6 Torr |
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|
排氣速度 |
- |
從1個大氣壓 到 5x10-5 Torr 約15分鐘 (在空爐時) |
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視窗 |
- |
1組 |
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|
鎢絲數 |
- |
18~22個 |
20~24個 |
20~26個 |
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迴轉幫浦 |
公升/每分鐘 |
6000 |
10,000 |
15,000 |
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加強幫浦 |
M3/ 每小時 |
1,500 |
3,000 M3/ 每小時 |
5,000 |
|
擴散幫浦 |
公升/ 每秒 |
45,000 |
45,000 |
45,000 *2 |
|
維持幫浦 |
建議配備 |
300~600公升/每分鐘 |
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|
膜厚計 |
石英式 膜厚計 |
單片式感測頭/ 六片式感測頭 |
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真空計 |
- |
Pirani + Cold Cathode (1 ATM ~ 10-6 Torr) |
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|
控制箱 |
- |
1組 |
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|
濺鍍靶材 |
- |
2~4個 |
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|
濺鍍源 |
- |
RF或DC |
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|
操作方式 |
- |
自動,手動 |
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|
冷卻水流量 |
公升/每分鐘 |
80 |
100 |
120 |
|
蒸著電源 |
- |
30KW |
35KW |
50KW |
|
高真空閥 |
- |
24英吋 |
36英吋 |
36英吋 |
|
粗抽閥 |
- |
6英吋 |
6英吋 |
8英吋 |
|
預抽閥 |
- |
6英吋 |
||
|
洩氣閥 |
- |
2英吋 |
||
|
維持閥 |
- |
1英吋 |
||
|
真空計 |
- |
Pirani + Cold Cathode (1 ATM ~ 10-6 Torr) |
||
|
冷卻水塔 |
- |
15RT (水壓: 4Kg/ cm2,壓差:2Kg/ cm2) |
||
|
冷卻水溫度 |
- |
建議 入水18℃，出水25℃，標準溫度20±1℃ |
||
|
超低溫冷凍機 |
- |
超低溫冷凍機-110~-140℃ (採用環保冷媒) 另外選配 |
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|
空壓機 |
- |
3HP (空壓: 6~ 8 Kg/ cm2 |
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|
所需電力 |
- |
75KW |
85KW |
95KW |
|
環境需求 |
- |
十萬級無塵室; Epoxy平面地板; 空調; 溫度25±3℃; 濕度50±10% |
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立式雙門真空蒸著機
特色:
- 左右爐可個別蒸著
- 蒸著製程有4組可供選擇
- 可加裝RF或濺鍍靶材
- 搭配電漿聚合(HMDS)表面處理模組，製程符合環保、低汙染，更可滿足產品表面需阻水、阻氣或疏水等特性要求，以提高產品附加價值。
用途:
- 裝飾產品/汽車燈罩/合金輪胎鋼圈/化妝品容器
- 香水瓶/鏡子/電器零件/NCVM及金屬化蒸著
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系統/機種 |
LP-1300 BSD |
LP-1600 BSD |
LP-1800 BSD |
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|
腔體尺寸 |
直徑 |
1300 mm |
1600mm |
1800mm |
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|
高度 |
1300 mm~1800 mm |
1600 mm~2000 mm |
1600 mm~2200 mm |
|||
|
可蒸鍍尺寸 |
- |
∮375x1,400 mm x6 |
∮380x1,700 mm x8 ∮450x1,700 mm x6 |
∮400x1,700 mm x8 ∮540x1,700 mm x6 |
||
|
到達真空度 |
- |
10-6 Torr |
||||
|
排氣速度 |
- |
從1個大氣壓 到 5x10-5 Torr 約15分鐘 (空爐時) |
||||
|
視窗 |
- |
1組 |
||||
|
鎢絲數 |
- |
18~22個 |
20~26個 |
20~26個 |
||
|
迴轉幫浦 |
公升/每分鐘 |
6,000~10,000 |
8,500~15,000 |
15,000 |
||
|
加強幫浦 |
M3/ 每小時 |
1,500~3,000 |
2,000~5,000 |
4,000~6,000 |
||
|
擴散幫浦 |
公升/ 每秒 |
45,000 |
45,000 |
45,000*2 |
||
|
維持幫浦 |
(建議配備) |
300~600公升/每分鐘 |
||||
|
真空計 |
- |
Pirani + Cold Cathode (1 ATM ~ 10-6 Torr) |
||||
|
控制箱 |
- |
1組 |
||||
|
高真空閥 |
- |
28~36英吋 |
36英吋 |
36英吋 |
||
|
粗抽閥 |
- |
6英吋 |
8英吋 |
10英吋 |
||
|
預抽閥 |
- |
6英吋 |
||||
|
洩氣閥 |
- |
2英吋 |
||||
|
維持閥 |
- |
1英吋 |
||||
|
蒸著電源 |
- |
30KW |
50KW |
75KW |
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|
操作方式 |
- |
自動,手動 |
||||
|
冷卻水流量 |
- |
100 公升/ 每分鐘 |
120公升/ 每分鐘 |
150公升/ 每分鐘 |
||
|
冷卻系統 |
- |
15 RT (水壓: 4Kg/ cm2,壓差:2Kg/ cm2) |
||||
|
冷卻水溫度 |
- |
建議 入水18℃，出水25℃，標準溫度20±1℃ |
||||
|
超低溫冷凍機 |
- |
另行選配 |
||||
|
射頻電漿產生器 |
- |
另行選配 |
||||
|
空壓機 |
- |
3HP ~5HP(空壓: 6 ~ 8 Kg/ cm2) |
空壓: 8 Kg/ cm2 |
|||
|
電力控制系統 |
- |
PLC |
||||
|
超低溫冷凍系統 |
- |
-110 ~ -140℃(另行選配) |
||||
|
所需電力 |
- |
75KW |
95KW |
105KW |
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特色：
- 中英文操作介面方便簡單。
- 電腦自動控制下，具有超高再現性。
- 採用高性能光學厚膜監控與電腦結合，可達到超高精度的光學厚膜。
- 可加裝RF 離子源、Ion Source 或 Plasma Gun 作高階光學膜蒸著製程。
- 加裝自動反面機構，可縮短蒸著作業時間，達到高效產能並減低生產成本。
- 自動化蒸著系統可強化生產管理及降低人事訓練時間。
用途：
- 單眼/數位相機 鏡片
- 監視器/投影機 鏡頭
- 彩色濾光鏡/ 鏡子
- 紅外線/紫外線 濾鏡
- AR 鍍膜
- 手機鏡頭
- DVD 讀取頭 & 監視器鏡片
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系統/機種 |
LP-900 EBA |
LP-1100 EBA |
LP-1300 EBA |
|
|
尺寸 |
外徑尺寸 |
900 mm |
1100 mm |
1300 mm |
|
治具尺寸 |
∮820 mm |
∮950 mm |
∮1200 mm |
|
|
主性能 |
到達真空度 |
10-7 Torr/ 10-5 Pa |
||
|
操作真空度 |
從1個大氣壓 到 2x10-5 Torr(2.7X10-3 Pa) 約30分鐘 (空爐時) |
|||
|
基板溫度 |
350℃ (最大) |
|||
|
排氣系統 |
迴轉幫浦 |
3,000公升/ 每分鐘 |
3,000公升/ 每分鐘 |
3,000公升/ 每分鐘 |
|
加強幫浦 |
600 M3/ 每小時 |
600 M3/ 每小時 |
1,500 M3/ 每小時 |
|
|
擴散幫浦 |
20,000公升/ 秒x 1 |
15,000公升/ 秒x 2 |
45,000公升/ 秒x 1 |
|
|
超低溫冷凍機 |
-110 ~ -140 ℃ |
|||
|
加溫系統 |
微加熱器 |
12KW |
12KW |
24KW |
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膜厚計 |
光學式膜厚計 |
LP廣波域膜厚計380mm~1,050mm |
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|
石英式膜厚計 |
單片式感測頭/ 六片式感測頭 |
|||
|
真空計 |
- |
Pirani + Cold Cathode (1ATM ~ 10-9 Torr / 1ATM ~ 10-7 Pa) |
||
|
蒸發源 |
電子槍 |
Plasmatech 6KW/10KW |
||
|
電阻加熱 |
3KW |
6KW |
6KW |
|
|
迴轉方式 |
- |
行星式或公轉式 |
||
|
離子源 |
- |
另外選配 |
||
|
冷卻系統 |
- |
水壓: 4Kg/ cm2,壓差:2Kg/ cm2 |
||
|
冷卻水流量 |
公升/分鐘 |
80 |
100 |
150 |
|
冷卻水溫度 |
- |
建議 入水18℃，出水25℃，標準溫度20±1℃ |
||
|
冷卻水塔 |
- |
水壓: 4Kg/ cm2; 壓差:2Kg/ cm2 |
||
|
空壓機 |
- |
3HP (空壓: 6 ~ 8 Kg/ cm2) |
||
|
接地電阻 |
- |
5歐姆以下 |
||
|
所需電力 |
- |
35KW |
40KW |
60KW |
|
環境需求 |
十萬級無塵室環境; Epoxy平面地板;空調;溫度25±3℃; 濕度50±10% |
|||
|
系統/機種 |
LP-1500 EBA |
LP-1800 EBA |
||
|
尺寸 |
外徑尺寸 |
1,500 mm |
1800 mm |
|
|
治具尺寸 |
∮1,400 mm |
∮1,600 mm |
||
|
主性能 |
到達真空度 |
10-7Torr / 10-5 Pa |
||
|
操作真空度 |
從1大氣壓 到 2x10-5 Torr 約30分鐘 (空爐時) |
|||
|
基板溫度 |
350℃ (最大) |
|||
|
排氣系統 |
迴轉幫浦 |
5,000 公升/ 每分鐘 |
6,000 公升/ 每分鐘 |
|
|
加強幫浦 |
1,500M3/每小時 |
2,600 M3/ 每小時 |
||
|
擴散幫浦 |
45,000公升/ 每秒x1 |
45,000公升/ 每秒x2 |
||
|
超低溫冷凍機 (採環保冷媒) |
-110 ~ -140℃ |
|||
|
加溫系統 |
微加熱器 |
36KW |
42KW |
|
|
膜厚計 |
光學式膜厚計 |
LP廣波域膜厚計 |
||
|
石英式膜厚計 |
單片式感測頭/ 六片式感測頭 |
|||
|
真空計 |
- |
Pirani + Cold Cathode (1ATM ~ 10-9 Torr / 1ATM ~ 10-7 Pa) |
||
|
蒸發源 |
電子槍 |
JEOL 或 Plasmatech 6KW/10KW/15KW |
||
|
電阻加熱 |
6KW |
|||
|
迴轉方式 |
- |
行星式或公轉式 |
||
|
離子源 |
- |
另外選配 |
||
|
冷卻水流量 |
公升/分鐘 |
150 |
180 |
|
|
冷卻水塔 |
- |
水壓: 4Kg/ cm2; 壓差:2Kg/ cm2 |
||
|
空壓機 |
- |
3~5HP (空壓: 6 ~ 8 Kg/ cm2) |
空壓: 8 Kg/ cm2以上 |
|
|
接地電阻 |
- |
5歐姆以下 |
||
|
電力控制系統 |
- |
PLC+ PC base (Windows System) |
||
|
所需電力 |
- |
80KW |
110KW |
|
|
環境需求 |
十萬級無塵室環境; Epoxy平面地板;空調;溫度25±3℃; 濕度50±10% |
|||
