系統/機種

LP-900 EBA

LP-1100 EBA

LP-1300 EBA

尺寸

外徑尺寸

900 mm

1100 mm

1300 mm

治具尺寸

∮820 mm

∮950 mm

∮1200 mm

主性能

到達真空度

10-7 Torr/ 10-5 Pa

操作真空度

從1個大氣壓 到 2x10-5 Torr(2.7X10-3 Pa) 約30分鐘 (空爐時)

基板溫度

350℃ (最大)

排氣系統

迴轉幫浦

3,000公升/ 每分鐘

3,000公升/ 每分鐘

3,000公升/ 每分鐘

加強幫浦

600 M3/ 每小時

600 M3/ 每小時

1,500 M3/ 每小時

擴散幫浦

20,000公升/ 秒x 1

15,000公升/ 秒x 2

45,000公升/ 秒x 1

超低溫冷凍機

-110 ~ -140 ℃

加溫系統

微加熱器

12KW

12KW

24KW

膜厚計

光學式膜厚計

LP廣波域膜厚計380mm~1,050mm

石英式膜厚計

單片式感測頭/ 六片式感測頭

真空計

-

Pirani + Cold Cathode (1ATM ~ 10-9 Torr / 1ATM ~ 10-7 Pa)

蒸發源

電子槍

Plasmatech 6KW/10KW

電阻加熱

3KW

6KW

6KW

迴轉方式

-

行星式或公轉式

離子源

-

另外選配

冷卻系統

-

水壓: 4Kg/ cm2,壓差:2Kg/ cm2

冷卻水流量

公升/分鐘

80

100

150

冷卻水溫度

-

建議 入水18℃，出水25℃，標準溫度20±1℃

冷卻水塔

-

水壓: 4Kg/ cm2; 壓差:2Kg/ cm2

空壓機

-

3HP (空壓: 6 ~ 8 Kg/ cm2)

接地電阻

-

5歐姆以下

所需電力

-

35KW

40KW

60KW

環境需求

十萬級無塵室環境; Epoxy平面地板;空調;溫度25±3℃; 濕度50±10%

系統/機種

LP-1500 EBA

LP-1800 EBA

尺寸

外徑尺寸

1,500 mm

1800 mm

治具尺寸

∮1,400 mm

∮1,600 mm

主性能

到達真空度

10-7Torr  / 10-5 Pa

操作真空度

從1大氣壓 到 2x10-5 Torr 約30分鐘  (空爐時)

基板溫度

350℃ (最大)

排氣系統

迴轉幫浦

5,000 公升/  每分鐘

6,000 公升/  每分鐘

加強幫浦

1,500M3/每小時

2,600 M3/  每小時

擴散幫浦

45,000公升/  每秒x1

45,000公升/  每秒x2

超低溫冷凍機

(採環保冷媒)

-110 ~ -140℃

加溫系統

微加熱器

36KW

42KW

膜厚計

光學式膜厚計

LP廣波域膜厚計

石英式膜厚計

單片式感測頭/ 六片式感測頭

真空計

-

Pirani + Cold  Cathode (1ATM ~ 10-9 Torr / 1ATM ~ 10-7 Pa)

蒸發源

電子槍

JEOL 或  Plasmatech 6KW/10KW/15KW

電阻加熱

6KW

迴轉方式

-

行星式或公轉式

離子源

-

另外選配

冷卻水流量

公升/分鐘

150

180

冷卻水塔

-

水壓: 4Kg/  cm2; 壓差:2Kg/ cm2

空壓機

-

3~5HP  (空壓: 6 ~ 8 Kg/ cm2)

空壓: 8 Kg/ cm2以上

接地電阻

-

5歐姆以下

電力控制系統

-

PLC+ PC base  (Windows System)

所需電力

-

80KW

110KW

環境需求

十萬級無塵室環境; Epoxy平面地板;空調;溫度25±3℃;  濕度50±10%