Veeco 離子源 MARKII

特色:

  1. Mark ll離子源為光學鍍膜產業最被廣泛使用的離子源,除了延續lon Tech及Commonweath Scientifics的傳統優點之外,更加入許多Veeco的獨特的設計
  2. Mark ll相較其他同型離子源,可提供更高的離子電流,以3000W的放電功率為例,使用O2氣體的最大離子電流可達3.4Amp,相較其他同型離子源,增加了30-40%,可支援高鍍率製程需求。

應用:

Mark ll 的應用在光學鍍膜製程

  1. 離子輔助鍍膜
  2. 鍍膜前表面清潔
  3. Mark ll的功能在改善及提升鍍膜的效率
  4. 薄膜附著力
  5. 薄膜密度
  6. 薄膜應力
  7. 薄膜結構
  8. 薄膜光學特性(折射、吸收)

其他系列

  1. 中和式(中卻陰極)水冷式,MARK III離子源
  2. 16cm RF 射頻離子源 

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