特色：

1. Mark ll離子源為光學鍍膜產業最被廣泛使用的離子源，除了延續lon Tech及Commonweath Scientifics的傳統優點之外，更加入許多Veeco的獨特的設計
2. Mark ll相較其他同型離子源，可提供更高的離子電流，以3000W的放電功率為例，使用O2氣體的最大離子電流可達3.4Amp，相較其他同型離子源，增加了30-40%，可支援高鍍率製程需求。

應用：

Mark ll 的應用在光學鍍膜製程

1. 離子輔助鍍膜
2. 鍍膜前表面清潔
3. Mark ll的功能在改善及提升鍍膜的效率
4. 薄膜附著力
5. 薄膜密度
6. 薄膜應力
7. 薄膜結構
8. 薄膜光學特性(折射、吸收)

其他系列

1. 中和式(中卻陰極)水冷式，MARK III離子源
2. 16cm RF 射頻離子源