特色:
- Mark ll離子源為光學鍍膜產業最被廣泛使用的離子源,除了延續lon Tech及Commonweath Scientifics的傳統優點之外,更加入許多Veeco的獨特的設計
- Mark ll相較其他同型離子源,可提供更高的離子電流,以3000W的放電功率為例,使用O2氣體的最大離子電流可達3.4Amp,相較其他同型離子源,增加了30-40%,可支援高鍍率製程需求。
應用:
Mark ll 的應用在光學鍍膜製程
- 離子輔助鍍膜
- 鍍膜前表面清潔
- Mark ll的功能在改善及提升鍍膜的效率
- 薄膜附著力
- 薄膜密度
- 薄膜應力
- 薄膜結構
- 薄膜光學特性(折射、吸收)
其他系列
- 中和式(中卻陰極)水冷式,MARK III離子源
- 16cm RF 射頻離子源